取本例患者下頜模型時應采用何種印模方法？
119、患者男，下頜雙側(cè)5678缺失，雙側(cè)下頜4余留牙正常，口底距舌側(cè)齦緣的距離為4mm。如果設計鑄造支架可摘局部義齒，設計RPI卡環(huán)組。
1、取本例患者下頜模型時應采用何種印模方法
A、解剖式印模
B、靜態(tài)印模
C、無壓力印模
D、功能性印模
E、一次印模
正確答案：D
答案解析：雙側(cè)游離端缺失印模要求取功能性印模。
關聯(lián)考點：暫時冠及印模與模型
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